| Mansic pour tous |
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| Le carbure de silicium |
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Le carbure de silicium (SiC), aussi appelé carborundum ou moissanite (nom donné par le Dr. Henri MOISSAN qui a été le premier à le synthétiser en 1905), est un composé solide formé par 50% de carbone et 50% de silicium. A l’état naturel, on ne trouve du SiC qu’en très faible quantité et dans des sites géologiques très particuliers tels les cheminées diamantifères, les cratères volcaniques kimberlitiques et même dans certaines météorites. De ce fait, la quasi-totalité du carbure de silicium vendu dans le monde est d’origine synthétique. |
Ce matériau est à la fois une céramique et un semi-conducteur doté de propriétés exceptionnelles. Il est très dur (presque aussi dur que le diamant), chimiquement inerte et résistant aux hautes températures (> 1000°C ), à l’oxydation et aux environnements hostiles. Le SiC possède une grande conductivité thermique lui permettant d’évacuer la chaleur aussi efficacement qu’un métal. Il est utilisé comme abrasif depuis plus d’un siècle dans l’industrie (c’est le produit principal de la société Carborundum) mais de nos jours, ses applications se diversifient comme par exemple vers l’aérospatiale (moteurs fonctionnant à haute température, disques de freinage), les matériaux composites, les filtres à particules et diverses pièces de chauffage.
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Ses propriétés optiques très proches de celles du diamant ont permis au SiC d’être utilisé, depuis peu, en bijouterie sous le nom de Moissanite. Cependant, la principale application des cristaux de carbure de silicium est le domaine de l’électronique. En effet, les composants à base de SiC sont supposés pouvoir fonctionner à de plus hautes températures, de plus fortes puissances, de plus grandes fréquences et dans des environnements plus hostiles que les composants actuels à base d’autres semi-conducteurs (comme le silicium, le germanium, l’arséniure de gallium…). Afin de profiter pleinement des propriétés exceptionnelles du carbure de silicium, il est impératif de maîtriser sa croissance sous forme de cristaux de très bonne qualité.
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Pierre précieuse à base de cristal de Moissanite |
Dr Henri MOISSAN
(28/09/1852 – 20/02/1907)
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Publicité de 1894 de la société Corborundum pour le "nouvel abrasif". |
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| La croissance cristalline de SiC |
| Un cristal est un matériau solide composé d’un empilement régulier et périodique d’atomes. Presque tous les matériaux solides (métaux, alliages, céramiques, sels, plastiques…) peuvent exister sous forme de cristaux si les conditions nécessaires à la bonne organisation des atomes sont atteintes. Dans la plupart des cas, il faut fournir de l’énergie (sous forme de chaleur ou de pression) aux atomes pour qu’ils puissent se positionner régulièrement dans un réseau tridimensionnel. Les cristaux trouvés dans la nature se sont généralement formés de manière spontanée, cependant cette procédure de croissance a l’inconvénient de créer beaucoup de défauts (empilement imparfait, inclusions d'autres matériaux...). Comme l'industrie de l'électronique a besoin de cristaux de très grande qualité pour améliorer les performances des composants fabriqués, les meilleurs cristaux formés spontanément sont généralement utilisés comme germe afin d'élargir la taille des cristaux voire d'améliorer leur qualité. Pour ce faire, une technique de croissance par réplication, appelée épitaxie (du grec "epi = sur" et "taxis = de manière ordonnée") est utilisée. Cette technique nécessite l'utilisation de réactifs et d'un germe. |
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Maille élémentaire d’un cristal de diamant |
Maille élémentaire d’un cristal de carbure de silicium |
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Coupe d'un empilement atomique à l'interface entre du Si cristallisé et une couche épitaxiale de SiC |
Schéma de base de la croissance épitaxiale à partir d'une phase gazeuse |
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Il est important de préciser que la périodicité d'empilement des atomes dans le cristal (le réseau atomique tridimensionnel) dépend très souvent des conditions de cristallisation. L'exemple le plus connu est le carbone qui peut, dans des conditions modérées de température et de pression, donner lieu à du graphite (charbon) alors que dans des conditions de température et de pression extrêmement importantes ce même graphite peut se transformer en diamant. Cette capacité à cristalliser sous différentes formes est appelée polymorphisme.
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Le SiC présente un cas un peu particulier de polymorphisme : le polytypisme. Dans ce cas, le changement de la séquence d'empilement des atomes n'intervient que dans une seule direction spécifique du réseau tridimensionnel. C'est grâce à cette propriété spécifique qui permet une variation quasi-infinie du réseau que des dizaines de polytypes de SiC ont été découverts. |
Cependant, seuls trois de ces polytypes sont, en raison de leur stabilité, communément produits. Ils sont appelés SiC-6H, SiC-4H et SiC-3C (les lettres H et C font référence à la symétrie du cristal, H pour hexagonale et C pour cubique). La plupart des propriétés physiques de ces trois polytypes sont identiques sauf pour les propriétés électroniques. Pour les composants électroniques chaque polytype possède des avantages propres. Par exemple, le 4H est un meilleur candidat pour les fortes puissances (ex. dans la distribution de courant à très haute tension) et les hautes températures (ex. dans les moteurs de voitures ou d'avions) alors que le 3C est plus adapté aux applications dans le domaine des hautes fréquences (ex. dans les radars). |
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Différences d'empilement atomique entre les principaux polytypes de SiC |
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A cause de la grande stabilité thermique de SiC, l’énergie que l'on doit fournir au matériau pour permettre la croissance cristalline est très importante. En conséquence, les techniques couramment utilisées pour de telles croissances requièrent des températures supérieures à 2200°C, ce qui rend le contrôle du procédé très difficile. De plus, ces conditions ne permettent que la cristallisation des polytypes hexagonaux (6H et 4H), le 3C étant stable pour des températures inférieures à 2000°C où l’énergie donnée aux atomes n’est pas suffisante pour permettre une croissance cristalline de bonne qualité.
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C’est pourquoi de nos jours, il n’existe toujours pas dans le commerce de cristaux de SiC- 3C ayant une qualité suffisante pour des applications en électronique alors que des cristaux de 4H et de 6H de très bonne qualité peuvent être achetés auprès de différentes sociétés. |
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| La croissance cristalline du SiC cubique |
Deux problèmes cruciaux doivent être résolus pour permettre l’élaboration de cristaux de SiC-3C utilisables pour des applications en électronique: |
1) trouver un germe adéquat pour l’épitaxie du 3C (car il n’existe pas de cristaux de 3C de bonne qualité) |
2) développer de nouvelles techniques de croissances capables de favoriser une bonne qualité cristalline pour le 3C (faible densité de défauts) même à basse température (afin de stabiliser le polytype cubique). |
Concernant le germe, le silicium cristallin a été énormément étudié pour l’épitaxie de SiC mais le matériau cubique obtenu a toujours été de mauvaise qualité. Les cristaux de SiC de polytypes 6H et 4H peuvent aussi être utilisés comme germe pour l’épitaxie du polytype 3C mais les couches obtenues contiennent bien souvent une importante densité de défauts. |
Concernant le germe, le silicium cristallin a été énormément étudié pour l’épitaxie de SiC mais le matériau cubique obtenu a toujours été de mauvaise qualité. Les cristaux de SiC de polytypes 6H et 4H peuvent aussi être utilisés comme germe pour l’épitaxie du polytype 3C mais les couches obtenues contiennent bien souvent une importante densité de défauts. Récemment, de nouvelles techniques de croissance, visant spécifiquement l’obtention de 3C, ont été développées en Europe, avec des résultats très prometteurs et complémentaires. En effet, alors qu’une technique permet le dépôt de bonnes couches de 3C d’une épaisseur de quelques microns (0,000001 mètre) sur des substrats de 6H (ou de 4H), une autre technique permet la croissance de couches SiC-3C très épaisses (de plusieurs centaines de microns à plusieurs mm d’épaisseur) tout en conservant la qualité du germe cubique utilisé. |
Au niveau international, il n’existe pas de réels concurrents utilisant des techniques similaires, ce qui signifie que l’Europe est en avance sur ce sujet spécifique et a un rôle majeur à jouer. |
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Couche épitaxiale de 3C contenant une grande densité de défaut (substrat de 6H) |
Couche épitaxiale de 3C de très bonne qualité (sur substrat de 6H) |
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| Les objectifs de MANSiC |
Le consortium MANSiC réunit les équipes Européennes développant ces nouvelles techniques de croissance ainsi que d’autres laboratoires européens dont l’expertise est internationalement reconnue dans le domaine des applications électroniques du SiC. Cet effort conjoint devrait permettre de développer une filière commerciale européenne alternative de cristaux de SiC-3C d’une qualité cristalline supérieure à ce qui est disponible actuellement. Un tel matériau devra, dans un premier temps, être caractérisé et testé (depuis le polissage de la surface jusqu’à la réalisation de composants) en vue de fabriquer des composants électroniques innovants et/ou de meilleure qualité que ceux produits actuellement.
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Un projet de recherche aussi complexe et structuré est une excellente base pour former des jeunes chercheurs dans les domaines de la physique du solide et des science des matériaux. Au cours de ce projet seront formés des doctorants et des post-doctorants dans des domaines aussi variés que : les nouvelles techniques de croissance cristalline, la caractérisation de matériaux semi-conducteurs ou la réalisation de composants électroniques. Des colloques ainsi que des écoles thématiques seront organisés afin de permettre aux jeunes chercheurs d’acquérir le bagage scientifique nécessaire à la bonne conduite de leurs travaux et de présenter leurs résultats à la communauté scientifique. |
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